中微公司刻蚀机自主可控吗

   2023-06-16 02:15:54 网络380
核心提示:自主可控。在2020年的时候,中微公司就已经推出了5nm的刻蚀机,这也得到了芯片制造的巨头公司台积电、三星等的大量订购。目前情况下,中微公司已经成为全球刻蚀机产业的中流砥柱。从制程设备到系统,全部都是中微公司独立自主制作。中微半导体设备(上

中微公司刻蚀机自主可控吗

自主可控。

在2020年的时候,中微公司就已经推出了5nm的刻蚀机,这也得到了芯片制造的巨头公司台积电、三星等的大量订购。目前情况下,中微公司已经成为全球刻蚀机产业的中流砥柱。从制程设备到系统,全部都是中微公司独立自主制作。

中微半导体设备(上海)股份有限公司(证券简称“中微公司”)是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司,为集成电路和泛半导体行业提供具竞争力的高端设备和高质量的服务。

60岁创办中微半导体!自研出首台5nm刻蚀机,确立了技术地位领先

中微公司不是国企。中微公司,中微半导体设备(上海)股份有限公司,是一家中外合资企业。中微半导体设备(上海)股份有限公司成立于2004年5月31日,总部位于.上海市浦东新区。中微半导体设备(上海)股份有限公司主要从事集成电路、LED芯片等微观器件的等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和MOCVD设备等关键设备的研发、生产和销售。

中微半导体设备(上海)股份有限公司的股东:上海创业投资有限公司、巽鑫(上海)投资有限公司、国开创新资本投资有限责任公司、南昌智微企业管理合伙企业等。中微半导体设备(上海)股份有限公司的前身是中微有限公司,由中微亚洲公司出资设立,设立时,中微有限公司是外商独资企业。2018年12月18日,中微有限公司召开董事会,将中微有限公司整体变更为外商投资股份有限公司。中微半导体设备(上海)股份有限公司荣获“第十六届中国国际工业博览会金奖”、“第二十届中国国际工业博览会银奖"等奖项。2018年初,美方涉嫌侵犯中微半导体设备(上海)股份有限公司专利权利的设备。

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2018年年初,美方涉嫌侵犯中微公司专利权的设备。随着海关介入执法,美方主动与中微公司展开谈判,双方最终达成全球范围相互授权的和解协议。2018年年初,中微半导体公司获悉,美方涉嫌侵犯中微公司专利权的设备即将从上海浦东国际机场进口,随即向上海海关提出扣留侵权嫌疑货物的申请。上海海关及时启动知识产权海关保护程序,在进口环节开展行政执法,根据权利人申请,暂停涉嫌侵权设备的通关,这批设备货值达3400万元。

随着海关介入执法,美方开始正视中微公司的自主研发专利及其在中国的知识产权状况,主动与中微公司展开谈判,双方最终达成全球范围相互授权的和解协议。

中微半导体的刻蚀机在哪里总装的

近两年,我国半导体行业的发展速度很快,但和美国等 科技 巨头相比较,技术仍是落后别人,但是国内产生所自研的技术、设备都能达到世界领先水平。最成功的案例莫过于蚀刻机设备,国内芯片企业所自研的蚀刻机已打破海外的技术垄断。

很多人都不清楚,蚀刻机的重要性并不低于光刻机,两者皆是生产高端芯片的重点设备。

但是,我国的光刻机设备一直处于十分落后的状态,很难让国内半导体厂商生产出高端芯片工艺。而蚀刻机在我国却是特别先进,用于下一代新高端工艺芯片生产,也是绰绰有余。

据了解,中微半导体的所自研的高精度蚀刻机已达到5nm,是国内半导体高端设备的顶尖存在,更是国际半导体行不可忽视的力量。在全球半导体设备企业满意度调查中,中微半导体公司排进世界第三,这也说明很多客户对于中微半导体产品是非常认可的。

要知道,中微半导体之所可以取得今日的巨大成就,完全离不开中微半导体创始人尹志尧,尹志尧拥有200多项各国专利和86项美国专利,而在美国硅谷也是具有一定影响力的华人之一。60岁时的尹志尧身披荣誉,决定携带团队回国创业。

尹志尧携团队回国,创办了中微半导体公司,并且展开对蚀刻机设备的研发,仅仅几年时间,中微半导体企业便自研出第一代介质刻蚀机,该蚀刻机采用单独操作双反台,该设备相比其它蚀刻机效率提升了30%,中微半导体也在市场上获得了好名声。

随着中微半导体的创新技术不断产出,在一段时间当中,中微半导体毅然遭到了美国技术的封锁,直到2015年期间,美国才放弃对中微半导体公司的技术封锁。

中微半导体成立的第11年,中微半导体再次自研出首台最先进的5nm刻蚀机,自此,中国的5nm蚀刻机在全球确立了5nm刻蚀机技术的地位领先。

现如今的中微半导体5nm蚀刻机设备已和台积电等芯片代工企业采购,目前,对于国内的芯片产业链来看,中微半导体已经可以长久的供应技术维持。

对于中微半导体公司的未来发展你怎么认为?

中微半导体的刻蚀机在台积电总装

刻蚀是半导体制造中十分关键的一环,刻蚀通过物理或化学方法将硅片表面不需要的材料去除,从而将掩膜图形正确的复制到涂胶硅片上。

刻蚀过程需要用到刻蚀机这一设备。如今,我国在光刻机领域虽然还难以突破,但在刻蚀机领域,我国已经实现突围。

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